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微波等離子化學氣相沉積系統-MPCVD

  • 微波等離子化學氣相沉積系統 -MPCVD
     

                                       -----寶石級大尺寸單晶金剛石制備系統
     
     
     

    微波等離子化學氣相沉積技術(MPCVD), 通過等離子增加前驅體的反應速率,降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態好的高質量硬質薄膜和晶體。

    MPCVD 是世界公認的制備大尺寸單晶金剛石有效手段之一。德國 iplas 公司專利的 CYRANNUS ® 等離子技術解決了傳統等離子技術的局限,可以在 10mbar 到室壓范圍內激發高穩定度的等離子團,最大限度的減少了因氣流、氣壓、氣體成分、電壓等因素波動引起的等離子體狀態的變化,從而確保單晶生長的持續性,為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。
     
     

     

    iplas CYRANNUS ® 系列 產品特點:
     
     
     
    1. CYRANNUS ® 技術無需在樣品腔內安裝內部電極,在沉積腔內,沒有工作氣體以外的任何物質,潔凈,無污染源。等離子發生器可以保持長壽命,并可以確保腔內的等離子體的均勻分布,進一步生成晶體的純凈度和生長周期。
     
    2. CYRANNUS ® 技術的腔外多電極設置,確保等離子團穩定生成于腔內中心位置,對腔壁、窗口等無侵蝕作用,減少雜質來源,提高晶體純度。由 CYRANNUS ® 系統合成的金剛石,純度均在VVS級別以上。
     
    3. 電子溫度和離子溫度對中性氣體溫度之比非常高,運載氣體保持合適的溫度,因此可使基底的溫度不會過高。

    4. 微波發生器穩定易控,能在從10mbar到室壓的高壓強環境下維持等離 體,在氣流、氣壓、氣體成分、電壓出現波動時,確保等離子體狀態的穩定,保證單晶生長的過程不被上述干擾而中斷,有利于獲得大尺寸單晶金剛石。

    5. 可以采用磁約束的方法,約束在等離子團在約定的空間內,微波結和磁路可以兼容。

    6. 安全因素高。高壓源和等離子體發生器互相隔離,微波泄漏小,容易達到輻射安全標準。
     
    7.可搭配多種功率微波源和不同尺寸腔體,滿足從實驗室小型設備到工業大型裝置的不同需要。最大可以對300mm直徑的襯底沉積金剛石薄膜。



     



     


     

    化學機理概要:

    碳氫化合物:提供沉積材料

    氫氣:生成sp 3

    氧:對石墨相/sp 2鍵侵蝕

    惰性氣體:緩沖氣體,或生成納米晶體。

    適用合成材料:

    大尺寸寶石級單晶鉆石

    高取向度金剛石晶體

    納米結晶金剛石

    碳納米管/類金剛石碳(DLC)

     

         金剛石薄膜

    寶石級鉆石
    vvs1,~1 carrat, E grade

     


    多種等離子發生器選擇:
     
    頻率:2.45GHz, 915MHz:
     
    功率:1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW,5-30kW
     
    等離子團直徑:70mm, 145mm, 250mm, 400mm
     
    工作其他范圍:0-1000mBar
     
    其他應用:
      MPCVD同樣適用于平面基體,或曲面顆粒的其它硬質材料如Al 2O3,c-BN的薄膜沉積和晶體合成。德國 iplas 公司憑借幾十年在等離子技術領域的積累,可以為用戶提供高度定制的設備,滿足用戶不同的應用需要。

     

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