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和茂儀器
產(chǎn)品中心

小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)

  •   小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)是英國Durham Magneto Optics公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā),為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。

     

      傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商 提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。 無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板 的方法,克服了 這一問題。與通過物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光 直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān),在光刻膠上直接 曝光繪出所要的圖案。

      Microwriter ML 3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有 結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩膜直寫系統(tǒng)的靈 活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè) 計(jì),全自動(dòng)控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌 面。

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    產(chǎn)品特點(diǎn)  

    Focus Lock 自動(dòng)對焦功能

    Focus lock 技術(shù)是利用自動(dòng)對焦功能對樣品表面高度進(jìn)行探測,并通過 Z 向調(diào)整和補(bǔ)償,以保證曝光分辨率。

    光學(xué)輪廓儀

    Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層, MEMS 等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測與套刻。 Z 向最高精度 100 nm ,方便快捷。

     

    標(biāo)記物自動(dòng)識別

    點(diǎn)擊“ Bulls-Eye” 按鈕, 系統(tǒng)自動(dòng)在 顯微鏡圖像中識別光刻 標(biāo)記。標(biāo)記 物被識別后,將 自動(dòng)將其移動(dòng) 到顯微鏡中心位置。

    別直寫前預(yù)檢查

    軟件可以實(shí)時(shí) 顯微觀測基體 表面,并顯示 預(yù)直寫圖形 位置。通過實(shí)時(shí)調(diào)整 位置、角度,直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu) 重合,保證直寫準(zhǔn)確。

    簡單的直寫軟件

    MicroWriter 一個(gè)簡單直觀的 Windows 界面軟件控制 。工具欄 會引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡單的布局設(shè)計(jì)、基片對準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在 Windows10 系統(tǒng)下 運(yùn)行

     

    Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì) 軟件

    可以讀取多種 圖形設(shè)計(jì) 文件( DXF, CIF, GDSII, 等

    可以 直接 讀取 TIFF, BMP 圖片 格式

    書寫范圍只由基片尺寸決定

     

     

    產(chǎn)品參數(shù)
     
    Microwriter ML3 基本型 增強(qiáng)型 旗艦型
     最大樣品尺寸 155×155×7mm 155×155×7mm 230×230×15mm
     最大直寫面積 149mm x 149mm 149mm x 149mm 195mm x 195mm
     曝光光源 405 nm LED 1.5W 405 nm LED 1.5W 385 nm LED 適用于SU-8   (365+405nm雙光源可選)
     直寫分辨率 1μm 1μm and 5 μm 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
     直寫速度 20 mm 2 /m in @ 1μm 2 0mm 2 /min @ 1μm   120mm 2 / min @ 5μm 25mm 2 /min @ 0.6μm   50mm 2 /min @ 1μm   100mm 2 /min @ 2μm   1 80mm 2 /min @ 5μm
     對準(zhǔn)顯微鏡鏡頭 x10 x3 and x10 自動(dòng)切換 x3, x5, x10, x20 自動(dòng)切換
     多層套刻精度 ±1μm ±1μm ±0.5μm
     最小柵格精度 200nm 200nm 100nm
     樣品臺最小步長 100nm 100nm 50nm
     光學(xué)輪廓Z分辨率 無(可升級) 300nm 100nm
     樣品表面自動(dòng)對焦
     灰度直寫(255級)
     自動(dòng)晶片檢查工具 無(可升級)
     溫控樣品腔室 無 (可升級) 無 (可升級)
     虛擬模板校準(zhǔn)工具 無(可升級) 無(可升級)
     氣動(dòng)減震光學(xué)平臺 無(可升級) 無(可升級)
     
    應(yīng)用案例  

    直寫分辨率1μm

      

    直寫分辨率0.6μm

     

      微電極制備

           光刻膠上的圖形                                 Au電極(SEM)                                   Au電極(SEM)

         

           設(shè)計(jì)圖                                                  光刻膠上的圖形                                        放大圖的顯微結(jié)構(gòu)
          

     

    微結(jié)構(gòu)制備

       

     

       

     

    微流通道制備

       

     
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     產(chǎn)品資料下載: Microwriter ML3

     

     

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