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場發射掃描電鏡 LE(Phenom Pharos)
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產品簡介： 秉承飛納臺式電鏡系列全自動操作、快速成像、不噴金觀看絕緣體、完全防震、性能穩定的特點，經過精心的設計，臺式掃描電鏡領軍制造商荷蘭 Phenom-World 公司推出了臺式場發射掃描電鏡 Phenom LE，將臺式電鏡的分辨率提升至優于 2.5nm。
Phenom LE 飛納臺式場發射電鏡采用熱場發射電子源，信噪比高，使用壽命長，保證長期穩定的性能。飛納臺式場發射掃描電鏡能譜一體機標配背散射電子成像、二次電子電子成像和能譜分析功能，可對各種樣品進行高分辨成像及元素分析。
組成：
安裝環境要求：
· 真空系統：高流速分子泵
· 濕度要求：20%-80%
· 電子槍：肖特基場發射電子槍
· 溫度要求：15-30 ℃
· 電磁透鏡
· 場地要求：對震動和磁場無特殊要求
規格參數
Phenom Pro
Phenom ProX
Phenom LE
光學放大 20 - 135 X 20 - 135 X 20 - 135 X 電子光學放大 80 - 150,000 X 80 - 150,000 X 200 - 500,000 X 分辨率 優于 8 nm 優于 8 nm 優于 2.5 nm 數字放大 Max. 12 X Max. 12 X Max. 12 X 光學導航相機 彩色 彩色 彩色 加速電壓 5 kV - 15 kV 連續可調 5 kV - 15 kV 連續可調 5 kV - 15 kV 連續可調 真空模式 - 高分辨率模式
- 降低荷電效應模式
- 高分辨率模式
- 降低荷電效應模式
- 高分辨率模式
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