原子層沉積 （ Atomic layer deposition, ALD ）是通過將氣相前驅體脈沖交替的通入反應器，化學吸附在沉積襯底上 并反應 形成沉積膜的一種方法，是一種可以將物質以單原子 膜形式 逐層的鍍在襯底表面的方法。因此，它是一種真正的“納米”技術，以精確控制方式實現納米級的超薄薄膜沉積。由于 ALD 利用的是飽和化學吸附的特性，因此可以確保對大面積、多空、管狀、粉末或其他復雜形狀基體的高保形的均勻沉積。

   美國 ARRADIANCE 公司的 GEMStar XT 系列臺式 ALD 系統，在小巧的機身（ 78 x56 x28 cm ）中集成了原子層沉積所需的所有功能，可最多容納 9 片 8 英寸基片同時沉積。 GEMStar XT 全系配備熱壁，結合前驅體瓶加熱，管路加熱，橫向噴頭等設計， 使溫度均勻性高達 99.9% ，氣流對溫度影響減少到 0.03% 以下。高溫度穩定度的設計不僅實現在 8 英寸基體上膜厚的不均勻性小于 1% ，而且更適合對超高長徑比的孔徑結構等 3D 結構實現均勻薄膜覆蓋，可實現對高達 1500 ： 1 長徑 比微納 深孔內部的均勻沉積。

GEMStar XT 產品特點：

* 300 ℃ 鋁合金熱壁，對流式溫度控制

* 175 ℃溫控 150ml 前驅體瓶， 200 ℃溫控輸運支管

* 可容納多片 4 ， 6 ， 8 英寸樣品同時沉積

* 可容納 1.25 英寸 /32mm 厚度的基體

* 標準 CF-40 接口

* 可安裝原位測量或粉末沉積模塊等選件

* 等離子體輔助 ALD 插件

* 多種配件可供選擇

GEMStar XT 產品型號：

GEMStar XT-S ：

* 最大8 英寸 /200 mm 基片沉積（4'和6' 可選）

* 單路前驅體輸運支管， 4 路前驅體瓶接口

* 可升級為等離子體增強 ALD

GEMStar XT-D ：

* 最大 8 英寸 (200mm) 基片沉積（4'和6' 可選）

* 雙路前驅體輸運支管， 8 路前驅體瓶和 CF-40 接口

* 可升級為等離子體增強 ALD

GEMStar XT-P ：

* 最大 8 英寸 /200mm 基片沉積（4'和6 '可選）

* 雙路前驅體輸運支管， 8 路前驅體瓶和 CF-40 接口

* 裝備高性能 ICP 等離子發生器

  13.56 MHz 的等離子 源非常 緊湊，只需風冷，最高運行功率達 300W 。

* 標配3組氣流質量控制計（ MFC ）控制的等離子氣源線，和一條 MFC 控制的 運載氣體線，使難以沉積的氧化物、氮化物、金屬也可以實現均勻沉積。

  新產品發布：

* 最大1 00 mm 立方體樣品 沉積（4'和6' 可選）

* 單路前驅體輸運支管， 2路前驅體瓶接口

* 主要用于3D多孔材料，以及厚樣品的沉積

豐富配件：

多樣品托盤：

* 多樣品夾具，樣品尺寸（ 8", 6", 4" ）向下兼容。

* 多基片夾具，最多同時容納 9 片基片。

溫控熱 托盤：

* 可加熱樣品托盤，最高溫度 500 ℃，可實現熱盤 - 熱壁復合 加熱方式。

尾氣處理系統：

臭氧發生器：

粉末旋轉沉積罐模塊：

配合熱壁加熱 方式，進一步實現 對微納粉末 樣品全保型薄膜均勻沉積包覆。

手套箱接口：

可從側面或背面完美接入手套箱，與從底部接入手套箱不同，不占用手套箱空間。由于主機在手套箱側面，反應過程中不對手套箱有加熱效應，不影響手套箱內溫度。

•  Loïc Assaud et al. Systematic increase of electrocatalytic turnover over nanoporous Pt surfaces Prepared by atomic layer deposition. J. Mater. Chem. A (2015) DOI: 10.1039/c5ta00205b

• Xiangyi Luo et al. Pd nanoparticles on ZnO-passivated porous carbon by atomic layer deposition: an effective electrochemical catalyst for Li-O2 battery. Nanotechnology( 2015) 26, 164003. DOI:10.1088/0957-4484/26/16/164003

•  HengweiWang , et al. Precisely-controlled synthesis of Au@Pd core – shell bimetallic catalyst via atomic layer deposition for selective oxidation of benzyl alcohol. Journal of Catalysis (2015) 324, 59 – 68. DOI: 10.1016/j.jcat.2015.01.019

• Sean W. Smith, et al. Improved oxidation resistance of organic/inorganic composite atomic layer deposition coated cellulose nanocrystal aerogels. J. Vac. Sci. Technol. A (2014) 4, 32 DOI: 10.1116/1.4882239

• Fatemeh Sadat MinayeHashemi et al. A New Resist for Area Selective Atomic and Molecular Layer Deposition on Metal − Dielectric Patterns. J. Phys. Chem. C (2014), 118, 10957 − 10962. DOI: 10.1021/jp502669f

• Jeffrey B. Chou, et.al Enabling Ideal Selective Solar Absorption with 2D Metallic Dielectric Photonic Crystals. Adv. Mater. (2014), DOI: 10.1002/adma.201403302.

• Jin Xie , et al. Site-Selective Deposition of Twinned Platinum Nanoparticles on TiSi2 Nanonets by Atomic Layer Deposition and Their Oxygen Reduction Activities. ACS Nano (2013), 7, 6337 – 6345. DOI: 10.1021/nn402385f

• Pengcheng Dai, et al. Solar Hydrogen Generation by Silicon Nanowires Modified with Platinum Nanoparticle Catalysts by Atomic Layer Deposition. Angew . Chem. Int. Ed. (2013), 52, 1 – 6. DOI: 10.1002/anie.201303813

• Joseph Larkin et al. Slow DNA Transport through Nanoporesin Hafnium Oxide Membranes. ACS Nano (2013), 11, 10121 – 10128. DOI: 10.1021/nn404326f

• Thomas M et al. Extended lifetime MCP-PMTs: Characterization and lifetime measurements of ALD coated microchannel plates, in a sealed photomultiplier tube Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A (2013) 732, 388 – 391. DOI: 10.1016/j.nima.2013.07.023

• Kevin J. Maloney et al. Microlattices as architected thin films: Analysis of mechanical properties and high strain elastic recovery. APL Mater. 1, 022106 ( 2013) DOI: 10.1063/1.4818168

• Sean W. Smith et al. Improved Temperature Stability of Atomic Layer Deposition Coated Cellulose Nanocrystal Aerogels. Mater. Res. Soc. Symp . Proc. (2012 ) DOI: 10.1557/opl.2012.